取其精華去其糟粕,紫外試驗(yàn)箱不斷進(jìn)步
來(lái)源:林頻合作伙伴 時(shí)間:2022-03-07 09:58摘要:萬(wàn)物皆生,其中一定有好的,但也有壞的,我們的紫外試驗(yàn)箱也是如此。近年來(lái),由于市場(chǎng)壓力,設(shè)備的性能不斷提高。紫外線循環(huán)、水分循環(huán)和加熱系統(tǒng)是最好的證明...
萬(wàn)物皆生,其中一定有好的,但也有壞的,我們的紫外試驗(yàn)箱也是如此。近年來(lái),由于市場(chǎng)壓力,設(shè)備的性能不斷提高。紫外線循環(huán)、水分循環(huán)和加熱系統(tǒng)是最好的證明。
據(jù)說,在學(xué)習(xí)的過程中,我們必須取其優(yōu)勢(shì),不斷改進(jìn)。是的,在生產(chǎn)紫外試驗(yàn)箱的過程中,我們經(jīng)常從祖先的方法中學(xué)習(xí),但我們不會(huì)復(fù)制原件。我們將添加我們自己的想法,就像我們?cè)鰪?qiáng)了水分循環(huán)功能一樣,隨著溫度的升高,濕度對(duì)材料的破壞力會(huì)急劇上升。因此,在濕曝光過程中,溫度控制是最近的要求。此外,為了產(chǎn)生加速效果,需要在濕曝光過程中保持高溫環(huán)境。在設(shè)備冷凝過程中,溫度可設(shè)置在40℃至60℃之間的任何一點(diǎn)。紫外線循環(huán)一級(jí)的光化學(xué)反應(yīng)對(duì)溫度變化不敏感。二次反應(yīng)的速度與溫度變化密切相關(guān)。一般來(lái)說,隨著溫度的升高,反應(yīng)速度會(huì)加快。因此,在紫外線曝光試驗(yàn)過程中,溫度控制將加速試驗(yàn)中使用的最高溫度與材料在實(shí)際應(yīng)用中遇到的溫度相匹配。UV在設(shè)備中的溫度設(shè)置從50℃到80℃的任何一點(diǎn)都取決于光照度水平和室內(nèi)環(huán)境溫度。設(shè)備的溫度調(diào)節(jié)通過一系列系統(tǒng)完成,如空氣加熱器、水加熱器等具有微機(jī)計(jì)算功能的控制器。
如果我們不努力工作,我們就不會(huì)成功。今天,我們的紫外試驗(yàn)箱依靠前輩的知識(shí)積累,這已經(jīng)是我們自己的想法。因此,我們必須在前進(jìn)的道路上不斷學(xué)習(xí)。只有在學(xué)習(xí)過程中取其精華,去其糟粕,我們才能成功。